Nächste Generation von Mikrochips entwickelt in Thüringen

Ultraviolettes Licht mit extrem kurzer Wellenlänge ist das Erfolgsgeheimnis der EUV-Lithographie. Mit ihr gelingt die Fertigung von Mikrochips der nächsten Generation.

Gemeinsam erfolgreich: Das Expertenteam vom Fraunhofer Institut IOF in Jena, von Zeiss und Trumpf erhält für die Erfindung den Deutschen Zukunftspreis 2020. Bild: Deutscher Zukunftspreis

Unsere Welt wird immer smarter: Ein vernetztes Zuhause, in dem der Kühlschrank weiß, dass die Milch bald alle ist, lernfähige Roboter, mit deren Hilfe sich in Unternehmen wichtige Produktionsprozesse steuern lassen, autonome Fahrzeuge – all diese neuen Anwendungen der Informationstechnik und Systeme mit künstlicher Intelligenz erzeugen enorme Datenmengen, die in immer kürzerer Zeit verarbeitet sein wollen. Gelingen kann dies mithilfe einer neuen Generation von Mikrochips. Basis dieser Chips ist die innovative EUV-Lithographie, die auf ultraviolettem Licht fußt und die Chips wesentlich kleiner, leistungsfähiger, kostengünstiger und energiesparender macht.

Maßgeblich getragen wird die Technologie der neuen EUV-Lithographie von Forschern des Fraunhofer-Instituts für Angewandte Optik und Feinmechanik in Jena (IOF) sowie den Unternehmen Zeiss und Trumpf. Herzstück der Technologie wiederum sind Sensoren, die gemeinsam von der Technischen Universität Ilmenau und Micro-Hybrid Electronic, einem Unternehmen aus Hermsdorf, entwickelt werden. Micro-Hybrid Electronic ist auf miniaturisierte elektronische Schaltungen und Infrarotsensoren spezialisiert. Seit etwas mehr als zwei Jahren werden die neuartigen Mikrochips von den führenden Herstellern von Smartphones und Halbleiterprodukten verwendet, Tendenz: stark steigend. (gro)